職位描述
鍍膜工藝外延工藝電子/半導體/集成電路
崗位職責：
1. 負責MPCVD設備的工藝開發與優化，提高生產效率和產品質量。
2. 制定并執行工藝流程，解決生產過程中的技術問題。
3. 對現有工藝進行改進，降低生產成本，提升產品競爭力。
4. 配合研發部門進行新產品的研發和小批量試制。
5. 對操作人員進行工藝培訓和指導，確保生產順利進行。
崗位要求：
1. 本科及以上學歷，材料、物理、化學等相關專業。
2. 熟悉MPCVD工藝，有2年以上相關工作經驗。
3. 具備良好的問題分析及解決能力，有較強的團隊合作精神。
4. 了解半導體材料生長設備及其工藝流程。
5. 有良好的溝通協調能力和項目管理能力。
工作地點
槐蔭區山東力冠微電子裝備有限公司濟南市寬緊帶半導體產業園E座北門（請走公司北門）
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職位發布者
程女士/HRG
昨日活躍立即溝通
山東力冠微電子裝備有限公司山東力冠微電子裝備有限公司是一家集研發、生產、銷售為一體的專業裝備制造企業，是中國電子專用設備工業協會會員、第三代半導體產業技術創新戰略聯盟副理事長單位。公司集中業內科技人才致力于為廣大客戶提供非標產品客制化定制服務，主要客戶有國內知名研究院所、高校研究實驗室及生產半導體材料的企業。1、發展歷程山東力冠成立于2013年，同年6月正式成為中國電子專用設備工業協會會員；2018年11月，被山東省科技廳認定為“高新技術企業”；2019年3月被第三代半導體產業技術創新戰略聯盟評為副理事長單位；2019年9月榮獲中國創新創業大賽·國際第三代半導體專業賽優勝獎。目前，該公司產值超1000萬，其產品主要有晶體提拉爐、氧化/擴散爐、低壓化學氣相沉積設備、RTP快速退火爐、真空退火爐、真空合金爐、砷化鎵晶體生長爐VGF/VB(HGF/HB)、區熔爐、液相外延爐、藍寶石退火爐、銻化鎵晶體(LEC)單晶爐、真空爐、氫氣爐、磁控濺射鍍膜設備、化學氣相淀積設備（PECVD）、干法刻蝕設備、MOCVD、非標真空設備等，被廣泛應用于半導體工藝處理設備、晶體生長設備、新材料生長設備等領域。2、創新特點公司技術力量雄厚，截至目前已通過授權專利30多個，其中，發明專利4個，實用新型專利17個，軟件著作權14個。公司十分注重人才引進和運用，擁有各類專業技術人員，其中碩士及以上學歷研發人員占比超過25%。未來，公司將繼續加大研發步伐，始終把目光聚焦于高端裝備需求的最前沿，致力于成為一家充滿活力和潛力的高端裝備供應商，為發展振興國內半導體工藝裝備，提升電子技術大國實力，貢獻一己之力！
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